退火处理对La_0.8Ba_0.2MnO₃薄膜的表面形貌、电学及磁学性能的影响

• 作者: 仇杰 刘国珍 王安成 胡慧敏 魏杰
• 来源期刊: 应用物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 退火时间 锰氧化物 磁学性质 电学性质
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 页码范围: 111-117
• 页数: 7页
• 分类号: O48

摘要

利用脉冲激光沉积法在SrTiO3(001)上生长了La0.8Ba0.2MnO3薄膜,我们研究了退火对其表面形貌、电学和磁学性能的影响。生长完成后,在500 mbar氧气氛中原位退火2小时可以使薄膜表面的均方根粗糙度从1.24nm减小到0.24nm。退火2小时后,薄膜的绝缘-金属相变温度增加了约100K。然而,当退火时间达到3小时,由于在晶格中掺入过量的氧,薄膜在220K以下出现其它的绝缘相。结果表明,适当的退火条件对优化脉冲激光沉积法制备的锰氧化物薄膜的表面微结构和物理性质尤为重要。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏杰		1	0	0.0	0.0
2	王安成		1	0	0.0	0.0
3	胡慧敏		1	0	0.0	0.0
4	刘国珍		1	0	0.0	0.0
5	仇杰		1	0	0.0	0.0