基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
在实际生长过程中,控制硅棒表面温度在1050℃±20℃的范围内,测定了生长过程中直径在Φ25mm~Φ130mm时所对应的电压U和电流I值.在此基础上,计算了多晶硅的电阻率σ约为0.00905Ω.cm.同时通过数据分析与拟合,对文献中σ-T曲线在≥700℃范围内进行了公式推导,发现当温度升高到杂质饱和电离温度后,σ与1/T成线性关系,并计算了1050℃时的电阻率为0.00973Ω.cm,与实测值相对误差仅6.99%,结果可供还原炉UI曲线设计时参考.
推荐文章
多晶硅还原炉能耗分析及节能措施
多晶硅
改良西门子法
还原炉
能耗
能量平衡
物料平衡
多晶硅铸锭炉升降机构设计
多晶硅铸锭炉
炉门升降
隔热框升降
波纹管
多晶硅氢化炉变压器的设计
氢化炉变压器
谐波
设计
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 还原炉内炽热多晶硅电阻率的测定与计算
来源期刊 云南化工 学科 工学
关键词 多晶硅 炽热 电阻率
年,卷(期) 2017,(7) 所属期刊栏目 分析测试
研究方向 页码范围 82-84
页数 3页 分类号 TQ110.6
字数 1123字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-275X.2017.07.028
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨楠 8 11 2.0 2.0
2 王邵南 1 1 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (1)
同被引文献  (1)
二级引证文献  (0)
2017(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2017(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
多晶硅
炽热
电阻率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
云南化工
月刊
1004-275X
53-1087/TQ
大16开
昆明市滇池路1417号云天化集团科技楼
1970
chi
出版文献量(篇)
6365
总下载数(次)
17
总被引数(次)
13197
论文1v1指导