KH-550对AZ31B镁合金表面微弧氧化膜结构及性能的影响

• 作者: 代鑫 崔学军 张颖君 郑冰玉
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 涂层 阳极氧化 硅烷 偶联剂 抑弧效应
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 227-232
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.11902/1005.4537.2016.016

摘要

通过微弧氧化(MAO)的方法在Na2SiO3-KOH-NaF电解质溶液中处理AZ31B镁合金,利用SEM、XRD和电化学等表征手段,研究了硅烷偶联剂KH550对MAO膜结构及性能的影响.结果表明,KH-550浓度在0～20 mL/L范围内增加时,MAO膜表面微孔尺寸和粗糙度先减小后增大,膜层厚度和耐蚀性能先增加后降低;引入KH-550后并未改变MAO膜的物相结构.分析认为KH-550通过硅烷醇的吸附和化学作用,增加了阳极表面薄弱区域离子移动的阻力,抑制镁合金在MAO过程的弧光放电,从而提高了膜层的生长效率,细化并均匀化微孔,改善了MAO膜的耐蚀能力.