工艺参数对磁控溅射WO3薄膜电致变色性能的影响

• 作者: 张青红 李海增 李耀刚 汤全丰 王宏志 陈培
• 来源期刊: 现代技术陶瓷
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 WO3薄膜 电致变色器件 氩氧比
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 142-149
• 页数: 8页
• 分类号: O484
• 字数: 3593字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16253/j.cnki.37-1226/tq.2016.11.002

摘要

本文采用磁控溅射法制备了用于电致变色器件的WO3薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)对其物相组成、微观形貌以及电致变色性能进行了表征.结果表明:在溅射压强为2 Pa、氩氧比为60∶20时所制备的WO3薄膜厚度适中,且有利于离子的嵌入/脱出,而以此薄膜制备的电致变色器件光调制范围最大,褪色时间最短,着色效率达82.9 cm2/C.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张青红	东华大学材料科学与工程学院先进玻璃制造技术教育部工程研究中心	55	204	8.0	12.0
2	李耀刚	东华大学材料科学与工程学院先进玻璃制造技术教育部工程研究中心	68	383	11.0	17.0
3	王宏志	东华大学材料科学与工程学院先进玻璃制造技术教育部工程研究中心	55	386	11.0	18.0
4	汤全丰	东华大学材料科学与工程学院先进玻璃制造技术教育部工程研究中心	1	1	1.0	1.0
5	李海增	东华大学材料科学与工程学院先进玻璃制造技术教育部工程研究中心	1	1	1.0	1.0