磁控溅射Cu薄膜的光电性能研究

• 作者: 何源源 李瑞 樊志琴
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: Cu薄膜 磁控溅射 光学性能 电学性能
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 页码范围: 1072-1077,1082
• 页数: 7页
• 分类号: TB43
• 字数: 2617字
• 语种: 中文

摘要

利用磁控溅射技术,通过正交试验设计方法,在K9光学玻璃基底上制备了Cu薄膜,研究了溅射时间、基底温度和氩气流量对Cu薄膜光电性能的影响.研究表明:Cu薄膜的透射谱在紫外波段362 nm处有明显吸收峰,但在可见光波段吸收强度较弱,说明Cu膜在可见波段有较高的透光性;膜厚度增加则光学透射率降低.电阻率随膜厚的增大,大体上呈逐渐减小的趋势;1100 nm 为临界尺寸,Cu膜厚度<1100 nm时,电阻率值变化较快;Cu薄膜厚度>1100 nm时,电阻率变化缓慢至定值.当溅射时间为25 min、基底温度为300 ℃、氩气流量为6.9 sccm时所得样品在紫外-可见光区没有吸收,且导电性好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	樊志琴	河南工业大学理学院	30	115	6.0	9.0
2	李瑞	河南工业大学理学院	22	64	5.0	6.0
3	何源源	河南工业大学理学院	2	0	0.0	0.0