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摘要:
利用XPS能谱分析结合平行成像技术,在功能器件等材料微区测量方面进行了一些探索,并选取了三类比较有代表性样品,通过设计合理的方法分别对其表面微区进行了有效测量,获得较好的测量结果.
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利用XPS研究紫外光激发下 GaAs晶片表面氧化反应
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内容分析
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文献信息
篇名 利用XPS平行成像技术进行材料表面微区分析
来源期刊 上海计量测试 学科
关键词 XPS分析 平行成像技术 表面微区分析
年,卷(期) 2017,(5) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 9-12
页数 4页 分类号
字数 2946字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1673-2235.2017.05.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 周莹 6 7 1.0 2.0
2 徐建 9 33 3.0 5.0
3 郝萍 5 6 1.0 2.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
XPS分析
平行成像技术
表面微区分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
上海计量测试
双月刊
1673-2235
31-1424/TB
大16开
上海市宜山路716号
4-769
1973
chi
出版文献量(篇)
3176
总下载数(次)
7
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