多弧离子镀法制备TiAlNC涂层的微观结构

• 作者: 吴王平 孔德军 江鹏 王知鸷 王辉 蒋金金
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlNC 涂层 微观结构 多弧离子镀
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 164-167
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

在碳化钨硬质合金WC-6％ Co基体上采用多弧离子镀技术制备TiAlNC涂层,采用扫描电镜和透射电镜观察涂层的微观组织结构,采用X射线衍射仪和X射线能谱分析仪分别确定涂层的物相及其化学成分.实验结果表明:涂层表面粗糙但均匀连续,且表面出现孔隙和少量的微裂纹;涂层与基体结合较好,无分层现象出现,其沉积速率约4.5 μm/h.涂层的平均化学组成为Ti(20 ±9 at％),Al(16 ±5 at％),N(39±5 at％)和C(25±10 at％),涂层由纳米晶TiN和非晶(Ti,Al)(N,C)两物相组成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王辉	常州大学机械工程学院	12	10	2.0	2.0
2	孔德军	常州大学机械工程学院	95	414	9.0	13.0
3	江鹏	常州大学机械工程学院	12	15	3.0	3.0
4	王知鸷	常州大学机械工程学院	10	9	2.0	2.0
5	吴王平	常州大学机械工程学院	15	19	3.0	3.0
6	蒋金金	常州大学机械工程学院	3	3	1.0	1.0