TFT-LCD白画面边缘发青不良机理分析及改善研究

• 作者: 张伟 张小凤 张文龙 方业周 潘信桦 石天雷 赵生伟 辛利文
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜晶体管液晶显示 层间介质层 氢化氮化硅 透过率 青色
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 新工艺 新技术
• 页码范围: 359-363
• 页数: 5页
• 分类号: TN87
• 字数: 1909字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14176/j.issn.1001-3474.2017.06.014

摘要

TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)在显示白画面的时候,屏幕边缘有发青的现象,这种不良现象严重影响人们的观赏感受,需要将这种不良进行改善.经过分析得知,TFT (Thin Film Transistor)基板的层间介质层(interlayer dielectrics,ILD)的氢化氮化硅(SiNx∶H)薄膜厚度偏薄,致使TFT基板的蓝光透过率偏大,从而导致TFT-LCD在显示白画面时,白光中蓝色光的比例偏大,最终出现发青现象.通过增加SiNx∶H薄膜的沉积厚度及减少SD(Source and Drain)干法刻蚀时间,使无SD覆盖的ILD膜层的SiNx∶H薄膜厚度增加,减小了TFT基板的蓝光透过率,最终TFT-LCD的白画面颜色均匀,无发青现象.