阴极离子镀制备TiN薄膜及其光电性能的研究

• 作者: 宋晨路 林威豪 汪建勋 陈胜男 韩高荣
• 来源期刊: 燕山大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 阴极离子溅射 TiN薄膜 低辐射 光电性能
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 371-376
• 页数: 6页
• 分类号: TB43|TU524
• 字数: 3149字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-791X.2017.04.014

摘要

氮化钛(TiN)由于其独特的物理、化学、光、电和机械等性能,近年来已成为材料研究热点.本文采用阴极离子镀膜法在304不锈钢基片上制备均匀致密的TiN薄膜.采用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、扫描探针显微镜、紫外可见分光光度计、红外光谱仪等方法研究了薄膜的物相、结构以及光电特性.结果表明,薄膜主要物相为TiN,在(111)晶面具有取向性,同时薄膜中含有少量的O杂质.薄膜表面较平整,颗粒结合紧密,有部分孔洞和小尺寸突起,表面粗糙度Rq约为21.21 nm,薄膜平均厚度约为0.896μm,在红外波段的反射率可达到80%以上,红外辐射率约为0.19,椭偏结果显示TiN薄膜的消光系数k和折射率n与Ag有相似的光学特性,是一种性能优异的低辐射镀膜材料.