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半导体封装用极低热膨胀系数基材的开发
半导体封装用极低热膨胀系数基材的开发
作者:
张洪文
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
热膨胀系数
叠加效应
分子模拟(技术)
相容能
自由体积
摘要:
本文主要介绍日立化成的研发者们采用分子模拟技术等手段研发了多芳性环型低CTE树脂,通过制作的低热膨胀系数的基材验证了低CTE效果。可以应用于半导体封装结构的应用,减少封装结构的翘曲。
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篇名
半导体封装用极低热膨胀系数基材的开发
来源期刊
覆铜板资讯
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工学
关键词
热膨胀系数
叠加效应
分子模拟(技术)
相容能
自由体积
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ftbzx,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
35-40
页数
6页
分类号
TN405
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期刊影响力
覆铜板资讯
主办单位:
覆铜板行业协会
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
大16开
出版地:
陕西咸阳10号信箱
邮发代号:
创刊时间:
1997
语种:
chi
出版文献量(篇)
1502
总下载数(次)
13
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