硅纳米晶体的低温共晶合金化制作及其表征

• 作者: 刘金涛 李香春
• 来源期刊: 光散射学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 硅纳米晶体 共晶点 拉曼散射光谱 二次离子质谱
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究中的应用
• 页码范围: 320-324
• 页数: 5页
• 分类号: O472
• 字数: 2433字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13883/j.issn1004-5929.201704006

摘要

利用Au/Sb和Au/Si共晶点温度较低的特点,通过在～400℃合金化的方法,在硅片表面实现了掺Sb纳米晶体的制作.扫描电子显微镜观察到了Au/Si合金化反应形成的倒金字塔形蚀坑以及纳米结构的存在,拉曼散射光谱证实这些结构主要是纳米尺度的晶体,二次离子质谱表明Sb在Si中的掺杂浓度大于2×1018 cm-3,超过了Sb在体晶硅中的固溶度.该纳米晶体的制作方法简单易行,热预算较低,和其他微纳器件制作工艺的兼容性较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘金涛	西安工业大学建筑工程学院	12	25	3.0	4.0
2	李香春	文华学院信息科学与技术学部	3	1	1.0	1.0