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摘要:
目的 采用物理气相沉积磁控溅射方法,通过控制碳靶电流改变掺铬类石墨镀层的碳含量,在高速钢基体上制备不同厚度的掺铬类石墨镀层,以探究碳含量对掺铬类石墨镀层结构和性能的影响.方法 采用压痕法和划痕法对镀层的膜基结合强度进行评价.采用维氏显微硬度计对镀层的硬度进行分析.采用ST-2258A四探针测试仪测量镀层的电导率.使用扫描电子显微镜对镀层的微观结构进行分析.使用摩擦磨损仪对镀层的摩擦学性能进行探究.结果 随着碳靶电流的增加,掺铬类石墨镀层的截面柱状化现象越来越明显,表面团簇颗粒直径越来越大.碳靶电流为1A时,镀层的截面形貌为细晶团簇结构;碳靶电流为3A时,镀层截面产生柱状结构.镀层的复合硬度随着镀层碳靶电流的增加逐渐增大,在碳靶电流为3A时,镀层的维氏硬度最大,为436HV.随着碳靶电流增加,镀层电导率逐渐上升.结论 随着碳靶电流的增大,镀层致密度逐渐下降,镀层的电导率逐渐增加,镀层的摩擦系数逐渐减小,适当的碳靶电流能使类石墨镀层在功能化与力学性能上达到最佳效果.
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文献信息
篇名 碳靶电流对掺铬类石墨镀层结构和性能的影响研究
来源期刊 表面技术 学科 工学
关键词 磁控溅射 类石墨镀层 碳靶电流 结构分析 性能
年,卷(期) 2017,(8) 所属期刊栏目 膜层材料与技术
研究方向 页码范围 109-114
页数 6页 分类号 TG174.444
字数 3556字 语种 中文
DOI 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.08.018
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈妍 12 28 4.0 4.0
2 陆斌斌 8 5 1.0 2.0
3 施文彦 1 1 1.0 1.0
4 叶平 14 21 3.0 3.0
5 蒋百灵 南京工业大学材料科学与工程学院 13 41 4.0 5.0
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磁控溅射
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表面技术
月刊
1001-3660
50-1083/TG
16开
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
78-31
1972
chi
出版文献量(篇)
5547
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