55nm工艺平台的标准单元库电路与版图设计研究

• 作者: 李向阳 胡晓明
• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 55 nm 标准单元库 尺寸 版图 Testchip
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造
• 页码范围: 51-57
• 页数: 7页
• 分类号: TN405
• 字数: 3824字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2017.05.013

摘要

作者基于55 nm工艺平台,自主设计标准单元库的电路与版图,并完成方法性研究及流程验证.本报告主要从标准单元、尺寸定义、版图设计、Testchip设计四个方面对标准单元库的开发工作进行分析与总结.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李向阳		2	0	0.0	0.0
2	胡晓明		3	0	0.0	0.0