极紫外光刻机多层膜反射镜表面碳污染的清洗

• 作者: 卢启鹏 宋源 彭忠琦 王依 龚学鹏
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 极紫外光刻机 碳污染 清洗技术 多层膜反射镜
• 年，卷（期）: 2017,（11）
• 所属期刊栏目: X射线光学
• 页码范围: 2835-2844
• 页数: 10页
• 分类号: TN305.7|O484.1
• 字数: 3949字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20172511.2835

摘要

针对极紫外(EUV)光刻机工作过程中,多层膜反射镜表面沉积碳污染造成的反射率下降问题展开研究,讨论了多层膜反射镜表面碳污染清洗方法.首先描述了在EUV曝光过程中多层膜表面的碳污染形成过程,简单阐述了碳污染对多层膜反射镜的危害.然后从清洗机理、速率以及效果等方面详细描述了多种EUV多层膜表面碳污染清洗方法,分析对比了各清洗技术在清洗速率和效果等方面的优缺点.分析表明:离子体氧和活化氧清洗速率相差不多,可达到2 nm/min,但清洗过程中容易造成表面氧化;等离子体氢和原子氢的清洗速率相对较慢,一般在0.37 nm/min左右,但清洗过程中不易产生氧化.最后针对不同方法应用于在线清洗EUV多层膜反射镜过程中将遇到的问题和难点进行了讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢启鹏	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	63	574	13.0	22.0
2	彭忠琦	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	27	364	9.0	19.0
3	宋源	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	4	12	2.0	3.0
4	龚学鹏	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	15	32	3.0	4.0
5	王依	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	4	5	2.0	2.0