(Al,Ti)N涂层力学性能工艺研究

• 作者: 左伟峰 程玺儒 赵广彬
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 正交实验 硬度 膜厚 膜基结合力
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 页码范围: 21-25
• 页数: 5页
• 分类号: O343.9|TP391.7
• 字数: 4112字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2017.06.05

摘要

通过磁控溅射离子镀与中频脉冲偏压电源相结合,优化制备(Al,Ti)N涂层的工艺.利用HVS-1000数显显微硬度计检测涂层硬度;MET-400多功能材料表面试验仪测定膜基结合力,JS-QHY-2型球痕仪测定厚度,DX-1000型X射线衍射仪检测物相.采用正交实验,作算术平均值和极差分析,优化制备涂层的工艺.结果表明波动时,最佳工艺为功率为10:24,脉冲偏压为100V,时间为2.5h,不波动时最佳工艺为5:24,脉冲偏压为100V,时间为2.5h.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵广彬	西华大学材料学院	24	89	6.0	7.0
2	左伟峰	西华大学材料学院	4	4	1.0	1.0
3	程玺儒	西华大学材料学院	5	5	1.0	1.0