溅射制备不同厚度Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜结晶态的研究

• 作者: 宋会会 朱彦旭 李莱龙 王岳华 石栋 邹德恕
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: PZT(52/48)薄膜 射频磁控溅射 退火晶化 X射线衍射(XRD)
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 页码范围: 1002-1008
• 页数: 7页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2903字
• 语种: 中文

摘要

研究了射频磁控溅射的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT52/48)薄膜在退火晶化时,厚度对其结晶态及表面形貌的影响.首先利用Materials Studio软件对PZT分子进行了模拟,并模拟了X射线衍射(XRD)得到PZT的特征峰图;实验上,采用退火炉对不同厚度的PZT(52/48)薄膜进行了不同温度及时间的退火;接着采用XRD对各样片薄膜进行了结晶物相分析;采用FIB对部分样片薄膜表面形貌进行了观察.实验结果显示,薄膜的厚度及退火条件在一定程度上对其结晶态的影响是一致的;对于一定厚度的薄膜,合适且相同的退火(650 ℃)条件都可以使其形成单一的PZT(52/48)物相;二次退火对较厚薄膜结晶化有一定的作用,但随着溅射薄膜厚度的增加而累加了内应力,退火后形成有PZT(52/48)物相的较厚薄膜表面出现裂纹越明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹德恕	北京工业大学光电子技术教育部重点实验室	58	270	10.0	12.0
2	朱彦旭	北京工业大学光电子技术教育部重点实验室	21	79	6.0	8.0
3	王岳华	北京工业大学光电子技术教育部重点实验室	4	6	1.0	2.0
4	宋会会	北京工业大学光电子技术教育部重点实验室	6	7	1.0	2.0
5	石栋	北京工业大学光电子技术教育部重点实验室	4	7	1.0	2.0
6	李莱龙	北京工业大学光电子技术教育部重点实验室	1	1	1.0	1.0