超临界CO2清洗技术在CMOS图像传感器中的应用

• 作者: 夏洋 康恒 景玉鹏 李勇滔 程嵩 黄洛俊
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 清洗 超临界二氧化碳(SSCO2) CMOS图像传感器 两相流 颗粒污染物
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 273-278,290
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.97
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2017.04.009

摘要

针对传统去离子水和高纯氮气组合的两相流清洗方法对CMOS图像传感器上颗粒污染物清洗良率不足的问题,采用了一种喷嘴式超临界二氧化碳(SSCO2)清洗的方法来清洗CMOS图像传感器.相比传统的水气两相流清洗方法,本方法利用了SSCO2的表面张力小、溶解度高和扩散能力强等优点.实验结果显示,喷嘴式超SSCO2清洗方法对CMOS图像传感器的像素点表面以及像素点之间直径大于300 nm的颗粒污染物可以进行有效清除,相对于传统的两相流清洗方法其清洗效果有明显的提高.该实验表明这种清洗方式在CMOS图像传感器清洗方面具有良好的应用前景.