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摘要:
研制了光发射电子显微镜(PEEM)高精度微聚焦系统,以实现上海光源软X射线PEEM光束线的高质量聚焦.根据上海光源PEEM光束线的概况,给出微聚焦系统光学元件的基本参数.基于Kirkpatrick-Baez(KB镜)两镜方案,设计了PEEM线微聚焦系统.介绍了KB镜姿态调整机构的设计方案,即利用三垂直线性驱动装置和两水平线性驱动装置相结合来实现五维调节,分析了姿态调节机构的原理与工作过程,给出了微聚焦系统的整体设计方案.测试了KB镜系统的机械性能,给出水平调节机构以及第一面镜子Pitch运动的测试结果,结果显示:水平调节机构分辨率为0.6μm,重复精度为0.85μm,Pitch角度分辨率为0.4″,重复精度为0.5″,优于指标要求.其它参数的测试结果亦均优于指标要求.实验表明,微聚焦系统机械指标的实现保证了PEEM线光斑的高质量聚焦.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 软X射线光发射电子显微镜光束线聚焦用KB镜系统
来源期刊 光学精密工程 学科 工学
关键词 同步辐射 光发射电子显微镜(PEEM) X射线显微镜 KB镜 结构设计
年,卷(期) 2017,(11) 所属期刊栏目 X射线光学
研究方向 页码范围 2810-2816
页数 7页 分类号 TH742.9|TN305.7
字数 3099字 语种 中文
DOI 10.3788/OPE.20172511.2810
五维指标
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研究主题发展历程
节点文献
同步辐射
光发射电子显微镜(PEEM)
X射线显微镜
KB镜
结构设计
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
月刊
1004-924X
22-1198/TH
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-166
1959
chi
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