TMIn流量对GaN基蓝光LED外延薄膜的影响

• 作者: 余春燕 尚林 李天保 董海亮 贾伟 赵广洲
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 三甲基铟 金属有机化学气相沉积 InGaN/GaN多量子阱
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 页码范围: 975-979,995
• 页数: 6页
• 分类号: O471
• 字数: 2862字
• 语种: 中文

摘要

以蓝宝石(Al2O3)为衬底,采用有机金属化学气相沉积(MOCVD)技术生长InGaN/GaN多量子阱结构.本文通过调整外延生长过程中三甲基铟(TMIn)流量,研究了TMIn流量对InGaN/GaN多量子阱结构的合金组分、晶体质量和光学性质的影响.本文采用高分辨X射线衍射(HRXRD)、原子力显微镜(AFM)和光致发光(PL)测试表征其结构和光学性质.HRXRD测试结果表明,随TMIn流量增加,"0"级峰与GaN峰之间角偏离增大,更多的In并入薄膜中.HRXRD与AFM表征结果表明:增大TMIn流量会导致外延薄膜中的位错密度增大,V形坑数量增加,晶体质量严重恶化;PL测试结果表明,随着TMIn流量增加,发光强度逐渐降低,半高宽增大,这是由于晶体质量恶化所导致.因此严格控制铟源流量对于改善量子阱薄膜的晶体质量与光学性质有着至关重要的作用.