γ射线辐照处理SrAl2O4∶Eu2+,Dy3+荧光粉的长余辉性能

• 作者: 傅仁利 刘超 杨芳 汤晔 蔡君德 顾席光
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 材料 长余辉发光材料 SrAl2O4∶Eu2+,Dy3+荧光粉 γ射线辐照 缺陷陷阱 氧空位
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 236-242
• 页数: 7页
• 分类号: TQ050.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201737.0116001

摘要

采用γ射线对SrAl2O4∶Eu2+,Dy3+长余辉荧光材料进行辐照处理,研究样品经辐照后的长余辉性能.用60Co～γ射线源照射固相合成的SrAl2O4∶Eu2,Dy3-长余辉荧光材料样品,累积辐照剂量为100 kGy.利用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪、紫外可见分光光度计、荧光分光光度计及热释光(TL)光谱仪对辐照前后样品的晶体结构、光吸收特性、余辉及热释光特性进行了研究.结果表明:辐照后样品的晶胞体积减小,氧空位的浓度增加;由于辐照使样品中引入更多的缺陷,其吸收光谱的强度提高.辐照后样品的余辉寿命延长,余辉光谱强度增加;热释光强度增加,且光谱向高温方向偏移,经计算得到辐照后样品中陷阱能级深度增加0.0039 eV,表明辐照影响了样品中陷阱能级分布且增加了样品中的深能级陷阱数目.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅仁利		55	577	15.0	21.0
2	顾席光		4	68	3.0	4.0
3	刘超		19	57	5.0	6.0
4	蔡君德		4	14	2.0	3.0
5	杨芳		4	17	3.0	4.0
6	汤晔		3	14	2.0	3.0