低能氢负离子激发石英玻璃发光

• 作者: 仇猛淋 殷鹏 王广甫 胥密 褚莹洁 郑力
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 负离子 石英玻璃 发光 羟基 缺陷
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 第16届全国荷电粒子源粒子束会议论文
• 页码范围: 14-18
• 页数: 5页
• 分类号: O482.3
• 字数: 2915字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20170226003

摘要

为研究材料辐照损伤的产生机制和缺陷的实时演变过程,在GIC4117串列加速器原有的低能负离子注入平台基础上加装光谱测量系统,实现具有“charge-up free”优点的负离子激发发光在线测量.利用20 keV H轰击羟基含量为20 μg/g,1 100 μg/g的石英玻璃测量其发射光谱,研究离子束辐照前后样品的吸收光谱.离子轰击过程中,发光中心数目随剂量先增加后缓慢衰减至平衡状态;蓝色和红色波段发光峰发光产额比可能受表面结构的影响稳定在3～4之间,低于MeVH+激发产额比.辐照前后吸收光谱反映的缺陷浓度变化与离子激发石英玻璃光谱强度变化一致.羟基含量较高的石英玻璃,发射光谱强度较低,吸收光谱强度辐照前后相对变化较小,对应产生的弗伦克尔缺陷数目较少.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王广甫	北京师范大学核科学与技术学院	45	220	7.0	13.0
3	褚莹洁	北京师范大学核科学与技术学院	4	1	1.0	1.0
4	仇猛淋	北京师范大学核科学与技术学院	6	1	1.0	1.0
5	胥密	北京师范大学核科学与技术学院	4	1	1.0	1.0
6	郑力	北京师范大学核科学与技术学院	3	1	1.0	1.0
9	殷鹏	北京师范大学核科学与技术学院	2	1	1.0	1.0