掩模图形切割方式对曝光时间的影响研究

• 作者: 张鹏 胡超 魏晓群
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 图形分割 参数 曝光时间
• 年，卷（期）: 2017,（11）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 39-43
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1667字
• 语种: 中文

摘要

掩模生产过程中,数据处理为至关重要的一环,利用专用数据处理软件,将客户设计的图形数据进行图形分割后转换成满足不同曝光机台的数据格式.通过调整数据处理软件的相关参数来研究对激光束曝光机、电子束曝光机曝光数据图形切割方式(fracture)的影响.通过实验数据确认图形切割方式的改变对两种曝光机台曝光时间的影响,最后通过合理优化参数值,在保证图形稳定性的同时,缩短曝光机台曝光时间,达到提升生产效率的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡超		5	11	2.0	3.0
2	张鹏		3	0	0.0	0.0
3	魏晓群		1	0	0.0	0.0