磁控溅射制备AZO/Al/GLASS双层膜的光电性能研究

• 作者: 范丽琴
• 来源期刊: 陶瓷学报
• 学科: 工学
• 关键词: 掺铝氧化锌 磁控溅射 光电学性质
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 244-247
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174.75
• 字数: 2324字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.2017.02.023

摘要

利用射频反应磁控溅射法在玻璃基片上制备Al薄膜,并在Al膜的表面镀上一层AZO薄膜,通过在Al膜表面镀上一层薄的AZO薄膜以提高其稳定性.并研究AZO/Al/glass双层膜的光电性能,以及Al薄膜层厚度对薄膜光电性能的影响.实验结果表明,当铝膜厚度为7 nm时,AZO/Al/glass双层膜品质因子最佳,为26.68×10-6Ω-1,此时方块电阻最低,为500 Ω/sq,可见光区的平均透过率最高,为64.95％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范丽琴		3	1	1.0	1.0