石墨烯湿法转移过程工艺优化

• 作者: 吴玉玲 吴长青 张为中 张杰 毕瑞可 郭航
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨烯 湿法转移 刻蚀 涂胶 超声处理
• 年，卷（期）: 2017,（8）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 565-569,579
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2017.08.010

摘要

石墨烯的转移过程决定着石墨烯的品质,进而对石墨烯基器件的性能有重要的影响.针对化学气相沉积(CVD)法生长的石墨烯在湿法转移过程中存在的问题,在常规湿法转移的基础上进行了优化研究.实验结果表明:基体背面石墨烯的刻蚀工艺可以有效解决铜箔残留问题;采用二次涂胶工艺可以大幅降低石墨烯的裂痕破洞密度;超声波处理有效提升了石墨烯表面残胶的去除效率.优化后的转移工艺可以明显降低石墨烯产品中的杂质数量和缺陷密度,提升石墨烯的表面洁净度,显著地提高石墨烯质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张杰	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	15	38	4.0	6.0
2	郭航	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	34	112	6.0	8.0
3	吴玉玲	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	7	26	4.0	5.0
4	吴长青	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	2	4	2.0	2.0
5	毕瑞可	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	1	2	1.0	1.0
6	张为中		1	2	1.0	1.0