表面修饰模式对Nafion离子选择性影响及在VRFB中的应用

• 作者: 卢善富 梁大为 武春晓 王海宁 相艳 谭青龙
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 表面修饰模式 钒离子渗透率 离子选择性 全钒液流电池
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 409-419
• 页数: 11页
• 分类号: O646
• 语种: 中文
• DOI: 10.13208/j.electrochem.160307

摘要

本文采用壳聚糖-磷钨酸层对Nafion膜表面分别进行单面和双面修饰改性,研究了修饰模式对Nafion膜钒离子渗透率、电导率及离子选择性的影响.结果表明,单面、双面修饰改性均会使Nafion膜的钒离子渗透率显著降低,最高降幅分别达到89.9％(单面修饰)和92.7％(双面修饰);单面、双面修饰改性均会使Nafion膜的电导率下降,但存在明显差异,在相同修饰厚度条件下,双面修饰改性对Nafion膜电导率的影响比单面修饰改性更小.因此,双面修饰复合膜展示出了比单面修饰复合膜更高的离子选择性,并且在修饰层厚度为l7μm时达到最大值(1.12×105 S·min·cm-3).基于优化的双面修饰Nafion膜的全钒液流电池,在充放电流密度30 mA·cm-2时,库仑效率和能量效率分别达到93.5％和80.7％,并在测试时间内展示出良好的循环稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢善富		11	24	2.0	4.0
2	相艳		22	144	8.0	12.0
3	梁大为		3	21	1.0	3.0
4	谭青龙		1	0	0.0	0.0
5	王海宁		1	0	0.0	0.0
6	武春晓		1	0	0.0	0.0