化学水浴法制备ZnS薄膜的结构与性能

• 作者: 李仲 洪瑞江 黄赛濠
• 来源期刊: 中山大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 硫化锌 化学水浴法 铜铟镓硒 薄膜太阳电池 缓冲层
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 页码范围: 78-84
• 页数: 7页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 5295字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13471/j.cnki.acta.snus.2017.03.012

摘要

采用化学水浴法制备了ZnS薄膜,并从沉积ZnS薄膜的化学反应原理出发,对其结构和性能进行了综合研究.结果表明:随着沉积时间的增加,ZnS薄膜厚度增加,其光学透过率降低,薄膜的禁带宽度也随之变小,最小值为3.74 eV;而薄膜的粗糙度变化不大,其值在6~9 nm之间.随着反应物浓度的增加,薄膜的光学透过率呈先增加后减小的变化,当反应物浓度过低或过高时,沉积反应都会向同质反应偏移,在薄膜表面生成杂质,导致薄膜不均匀.当沉积时间为120 min,ZnSO4、SC(NH2)2和NH3·H2O的浓度分别为0.03、0.4和4.0 mol/L时,沉积的ZnS薄膜呈均匀致密结构,成分为单一ZnS相,其光学透过率在450 ~ 900 nm波段高于70%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李仲	青海民族大学物理与电子信息科学学院	29	99	6.0	8.0