一步旋涂法制备的钙钛矿CH3NH3PbI3薄膜的热稳定性

• 作者: 张鑫 翟耀飞 郜小勇 高会
• 来源期刊: 郑州大学学报（理学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: CH3NH3PbI3薄膜 一步旋涂法 热稳定性
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 页码范围: 75-78
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2681字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13705/j.issn.1671-6841.2016227

摘要

利用X 射线衍射谱和扫描电子显微镜研究了一步旋涂法制备的钙钛矿CH3NH3PbI3薄膜结构的热稳定性.同时,根据实验结果研究了一步旋涂法制备CH3NH3PbI3薄膜的成膜机理.制备CH3NH3PbI3薄膜的最佳前热退火温度为100 ℃,而140 ℃是CH3NH3PbI3的临界热分解温度,在250 ℃时CH3NH3PbI3就完全热分解为PbI2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郜小勇	郑州大学物理工程学院	52	301	10.0	14.0
2	张鑫	郑州大学物理工程学院	47	184	8.0	12.0
3	高会	郑州大学物理工程学院	4	7	2.0	2.0
4	翟耀飞	郑州大学物理工程学院	4	7	2.0	2.0