化学亚胺化程度对正性光敏聚酰亚胺影响

• 作者: 吴作林 张春华 朱丹阳 杨正华 金锐 韩宝春
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 正性光敏聚酰亚胺 化学亚胺化 溶解性 光刻
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 276-281
• 页数: 6页
• 分类号: O633.2
• 字数: 3482字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11944/j.issn.1000-0518.2017.03.160195

摘要

选用2,2'-双三氟甲基4,4'-联苯二胺(TFDB)与二苯醚四甲酸二酐(ODPA)作为聚合物的基本骨架进行缩聚反应生成聚酰胺酸,再经过化学亚胺化得到可溶性聚酰亚胺(PI).通过调节2-甲基吡啶在亚胺化试剂中的含量以达到控制酰亚胺化程度的目的,探讨不同亚胺化程度的PI胶的显影性能.结果表明,当n(2-甲基吡啶)∶n(乙酸酐)=1∶5时,所合成的光敏聚酰亚胺的显影性能最优.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张春华	中国科学院长春应用化学研究所高分子复合材料工程实验室	118	1135	17.0	29.0
2	金锐		12	76	3.0	8.0
3	杨正华	中国科学院长春应用化学研究所高分子复合材料工程实验室	9	43	4.0	6.0
4	吴作林	中国科学院长春应用化学研究所高分子复合材料工程实验室	5	13	2.0	3.0
5	韩宝春	中国科学院长春应用化学研究所高分子复合材料工程实验室	4	12	2.0	3.0
6	朱丹阳	中国科学院长春应用化学研究所高分子复合材料工程实验室	5	55	3.0	5.0