圆柱形单模MPCVD装置的数值模拟与实验研究

• 作者: 刘繁 孙祁 汪建华 翁俊
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: MPCVD装置 单模 数值模拟 金刚石膜
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 页码范围: 50-54
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 3313字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.2.0011

摘要

微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其独特的优势被认为是制备高质量金刚石膜的首选方法.本实验对圆柱形MPCVD装置谐振腔中的电场分布及强度进行了数值模拟,在此基础上,在自行研制的圆柱形单模MPCVD装置上,进行了等离子体放电和金刚石膜的制备.结果表明:在输入功率仅为100 W的情况下,自行研制的圆柱形单模MPCVD装置的基片上方模拟计算得到的最高电场强度可达3.0×105V/m,即电场具有较好的聚焦能力,石英板式窗口的设计避免了等离子体的刻蚀.同时,在直径50 mm硅片上进行了微米及纳米金刚石膜的生长研究,沉积出高质量金刚石膜.研究结果为MPCVD装置的研制提供了理论指导.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
2	翁俊	武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室	33	102	4.0	8.0
3	刘繁	武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室	22	74	4.0	8.0
4	孙祁	武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室	15	42	3.0	6.0