植物诱导剂对黄瓜基质穴盘苗生长的影响

• 作者: 智雪萍 董飞 郑剑超
• 来源期刊: 北方园艺
• 学科: 农学
• 关键词: 黄瓜 植物诱导剂 基质 育苗 生长
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 44-46
• 分类号: S642.204+.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.11937/bfyy.201702009

摘要

以‘水果黄瓜A-B2,为试材,以植物诱导剂那氏齐齐发、叶面肥磷酸二氢钾喷施黄瓜苗叶片,以清水为对照,研究了植物诱导剂对黄瓜基质苗生长的影响,以期为培育优质黄瓜壮苗、提高壮苗指数、增加定植成活率提供参考依据.结果表明:喷施磷酸二氢钾和那氏齐齐发可有效控制黄瓜幼苗株高、叶长和叶宽,促进叶片数和茎粗的增加.黄瓜幼苗叶片数、茎粗和根长均以喷施磷酸二氢钾处理最大;黄瓜幼苗叶片SPAD值和氮含量则以喷施那氏齐齐发处理最高,均显著高于对照.喷施磷酸二氢钾和那氏齐齐发可抑制黄瓜幼苗地上部徒长,显著促进地下部生长,其中以喷施磷酸二氢钾处理最佳;根冠比和壮苗指数也以磷酸二氢钾处理最大.在黄瓜基质穴盘育苗生产中,喷施磷酸二氢钾可解决黄瓜幼苗徒长问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑剑超		14	31	3.0	4.0
2	智雪萍		18	50	4.0	6.0
3	董飞		12	51	5.0	6.0