Overlay chart管控方法的研究

• 作者: 姜颖洁
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: Overlay (OVL) T分布 卡方分布
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 40-44
• 页数: 5页
• 分类号: TN306
• 字数: 2009字
• 语种: 中文

摘要

在半导体制造光刻工艺中,OVL(Overlay,层对准)是测量前层与本层之间曝光准确度的参数[1].现阶段对于OVL的管控,一般根据工程师经验判断设定管控上下限,并没有合理地运用统计方法进行管控.这项研究的目的就是为了寻找合理的统计方法对OVL的管控上下限进行科学有效的设置,从而实现对OVL参数的科学管控.基于长期以来对于OVL数据的特性分析可知,这些数据并不符合最常见的正态分布,因此用3 Sigma作为管控上下限的方法并不适合对于OVL的管控.建议可以利用T分布及卡方分布对OVL进行管控,使用这种新的管控方法设置上下限,得到了合理的OCAP ratio,从而实现对OVL更有效的管控.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜颖洁		1	0	0.0	0.0