退火温度对二氧化钛薄膜的性能影响

• 作者: 卢忠荣 张大伟 潘长锦 王健
• 来源期刊: 光学仪器
• 学科: 物理学
• 关键词: 二氧化钛薄膜 退火温度 X射线衍射(XRD) 原子力显微镜(AFM) 透射率
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 68-72
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2827字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5630.2017.01.012

摘要

为了获得性能优良的二氧化钛薄膜,采用电子束蒸发沉积方法制备二氧化钛薄膜,并分别在300、600、900℃空气中对样品进行退火处理以改善所制备二氧化钛薄膜的性能.分别采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及分光光度计研究了退火温度对二氧化钛薄膜结构和光学性能的影响.结果表明,退火处理可以使二氧化钛薄膜由非晶态薄膜转换为金红石型薄膜,且金红石晶型成分随退火温度的加大而增大,同时退火处理可以改善二氧化钛薄膜在300～1 200 nm光谱范围的总吸光率以及增大二氧化钛薄膜的应用范围.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	117	391	11.0	15.0
2	王健	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	25	180	6.0	12.0
3	潘长锦	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	1	5	1.0	1.0
4	卢忠荣	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	1	5	1.0	1.0