Ni80Fe20镀层对Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9非晶条带磁阻抗效应的影响

• 作者: 吕文星 赵振杰 韩洋
• 来源期刊: 华东师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 相互作用 磁阻抗效应 复合结构
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学与电子学
• 页码范围: 71-79
• 页数: 9页
• 分类号: O482.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5641.2017.01.009

摘要

采用磁控溅射镀膜工艺,在Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9非晶条带的光滑面上溅射了130～650 nm厚的Ni80Fe20薄膜,制备了一系列Ni80Fe20/Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9复合结构样品.研究了镀层厚度对材料的镀层形貌、巨磁阻抗效应(Giant Magneto-Impedance,GMI)和磁滞回线的影响.结果发现,镀层厚度为260 nm厚时,样品的表面形貌最平整致密,最大磁阻抗比提高到33.0％.在玻璃基片上溅射了相同厚度的系列Ni80Fe20薄膜,其磁滞回线结果发现薄膜的各向异性方向随着厚度的增加由平行表面转变成垂直于表面.正是Ni80Fe20镀层各向异性的方向改变,影响了镀层与条带间的相互作用,进而影响复合结构样品的磁阻抗效应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵振杰	华东师范大学物理系纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心	57	324	8.0	16.0
2	韩洋	华东师范大学物理系纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心	1	0	0.0	0.0
3	吕文星	华东师范大学物理系纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心	1	0	0.0	0.0