电化学法制备HAP-TC4涂层的工艺性能研究

• 作者: 宋刚 徐国辉 王冰莹
• 来源期刊: 洛阳理工学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 钛合金 羟基磷灰石 共沉淀法 电化学法
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 材料化学与环境工程
• 页码范围: 10-13,96
• 页数: 5页
• 分类号: TQ175
• 字数: 2517字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-5403.2017.04.003

摘要

本文对共沉淀法制备HAP粉体及电化学法制备HAP涂层进行了工艺性能探究.HAP粉体制备中,按Ca/P比为1.67配置Ca (NO3)2·4H2O和(NH4)2HPO4溶液,控制反应溶液pH值及烧结温度等因素,通过SEM电镜观察组织形貌,分析pH值对致密度、孔隙度等的影响,结果表明pH=9时效果较佳;烧结温度在700℃时形貌较为理想.在电化学法制备HAP涂层实验中,通过改变沉积电压,得出在-3V沉积时涂层与基体结合较为理想.同时研究了沉积涂层质量、电流与时间之间的关系,这将为控制沉积时间控制涂层厚度提供理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐国辉	洛阳理工学院材料科学与工程学院	20	38	4.0	5.0
2	王冰莹	洛阳理工学院材料科学与工程学院	13	30	3.0	5.0
3	宋刚	洛阳理工学院材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0