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摘要:
随着现代集成电路的发展,工艺特征尺寸越来越小,氧化层越来越薄,集成电路抗静电能力也越来越差.对于深亚微米工艺集成电路来说,静电的损害更加严重,所以必须在设计芯片时加入适当的静电放电(Electrostatic Discharge,ESD)保护电路以减少静电放电对芯片内部的损伤.首先对ESD的来源、损伤原理、保护措施及静电模式做了详细介绍,在此基础上分别对I/O(输入输出端口)、Pin-to-Pin(端口对端口)、VDD-to-VSS(电源对地)及CDM(器件充电模式)的静电放电测试方法进行研究,并对静电测试及判别方法进行了说明,以帮助设计人员理解静电、损伤、保护、测试及判别的方法,更好的完成电路的抗静电设计.
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文献信息
篇名 集成电路ESD损伤及实验方法研究
来源期刊 微处理机 学科 工学
关键词 静电 测试方法 放电模式 静电设计 静电研究 损伤
年,卷(期) 2017,(1) 所属期刊栏目 大规模集成电路设计、制造与应用
研究方向 页码范围 27-32
页数 6页 分类号 TN40
字数 4451字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-2279.2017.01.008
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 苏昆 中国电子科技集团公司第四十七研究所 1 4 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
静电
测试方法
放电模式
静电设计
静电研究
损伤
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微处理机
双月刊
1002-2279
21-1216/TP
大16开
沈阳市皇姑区陵园街20号
1979
chi
出版文献量(篇)
3415
总下载数(次)
7
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