高品质钼靶材低压等离子喷涂成形技术研究

• 作者: 刘东华 熊翔 王芬 王跃明 闫志巧 闵小兵
• 来源期刊: 粉末冶金技术
• 学科: 工学
• 关键词: 低压等离子喷涂 钼靶材 近净成形 力学性能 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺与设备
• 页码范围: 284-292
• 页数: 9页
• 分类号: TG146.4+12
• 字数: 5103字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19591/j.cnki.cn11-1974/tf.2017.04.008

摘要

采用低压等离子喷涂成形技术制备了片状及回转体钼靶材,研究了钼靶材孔隙率、氧含量、微观结构、显微硬度及拉伸强度等性能,开展了片状钼靶材的磁控溅射镀膜研究.研究结果表明:低压等离子喷涂成形钼靶材为典型的定向凝固柱状晶层片结构,层片界面结合紧密,孔隙率约1.1%、氧质量分数为0.18%,显微硬度为HV0.025361.8,抗拉强度达到373.2 MPa,各项指标均明显优于大气等离子喷涂成形钼制品.低压等离子喷涂成形片状钼靶材可磁控溅射沉积出平整、致密、连续的钼薄膜,镀膜厚度约700 nm,X射线衍射谱线表明钼薄膜为体心立方结构,沿(110)方向择优生长.磁控溅射离子的均匀轰击导致钼靶材表面快速溅射及均匀减薄,溅射表面及截面较为平整光滑,溅射凹坑均为纳米级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊翔	中南大学粉末冶金国家重点实验室	345	3793	27.0	39.0
2	刘东华	湖南省冶金材料研究院先进涂层技术研究所	12	76	5.0	8.0
3	闵小兵	湖南省冶金材料研究院先进涂层技术研究所	34	208	8.0	12.0
4	王跃明	湖南科技大学高温耐磨材料及制备技术湖南省国防科技重点实验室	9	16	2.0	3.0
8	王芬	华南理工大学国家金属材料近净成形工程技术研究中心	12	50	4.0	7.0