磁控溅射光学膜均匀性改进

• 作者: 侯军民 刘思用
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 镀膜机 光学膜 均匀性
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 68-70
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 1231字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2017.02.17

摘要

随着光通讯的发展,对光学薄膜的性能要求越来越高,这对镀膜机的均匀性提出更高要求.本文通过设计一种新的夹具,使镀膜机的均匀性由1％优化为0.1％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯军民		2	0	0.0	0.0
2	刘思用		1	0	0.0	0.0