MOCVD反应室温度均匀性的研究

• 作者: 刘新卫 唐子涵 徐龙权 方颂
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: MOCVD 感应加热 温度均匀性
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 发光学应用及交叉前沿
• 页码范围: 220-225
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 3220字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20173802.0220

摘要

为研究一种有效提高MOCVD反应室温度均匀性的方法,针对自主研发的大型立式MOCVD反应室,建立二维模型,就激励电流对反应室温度均匀性的影响进行了分析.为提高温度均匀性,通过改变不同电参数来观察磁场及石墨盘表面径向温度的变化,发现电参数与加热效率成正比,但是与加热的均匀性成反比关系;在相同功率下,电流频率上升将导致温度均匀性下降.以上关系中反映出的合理的电参数,在保证反应温度的同时,保证了温度均匀性,有利于薄膜生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘新卫	南昌大学信息工程学院	3	8	2.0	2.0
2	唐子涵	南昌大学信息工程学院	3	8	2.0	2.0
3	方颂	南昌大学信息工程学院	3	8	2.0	2.0