聚酰亚胺正性光刻胶材料的制备及性能研究综述

• 作者: 路庆华 郑凤
• 来源期刊: 上海航天
• 学科: 工学
• 关键词: 聚酰亚胺 聚酰胺酸 光刻胶 二叠氮萘醌 光敏剂 制备 光刻性能 航天应用
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 战略发展与情报研究
• 页码范围: 136-147
• 页数: 12页
• 分类号: TB34
• 字数: 5409字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19328/j.cnki.1006-1630.2017.03.019

摘要

对聚酰亚胺(PI)+二叠氮萘醌(DNQ)型及聚酰亚胺前驱体(聚酰胺酸,PAA)+ DNQ型正性光刻胶材料的研究成果进行了综述.讨论了这两种正性光刻胶材料中成膜剂的设计和制备方法.其中:前者在PAA主链中引入疏水基团,抑制PAA的溶解性;后者在PI主链中引入亲水基团,促进PI的溶解性,从而使其能被用于正性光敏聚酰亚胺.讨论了DNQ光敏剂的结构设计和种类、光刻胶的配比和光刻性能,以及正性光敏聚酰亚胺在航天领域中的应用现状与展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	路庆华	上海交通大学化学化工学院	58	456	10.0	19.0
2	郑凤	上海交通大学化学化工学院	2	2	1.0	1.0