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原文服务方: 福建冶金       
摘要:
CVD涂层设备反应炉温度由加热罩控制.在CVD设备上对加热罩的不同的温控参数和不同工艺设计的加热罩进行刀片涂层实验对比,研究其不同点对刀片涂层质量的影响.研究表明,温度PID参数影响涂层刀片产品的质量,温度波动太大将导致膜厚不均匀;加热罩工艺设计虽然在控温上合格后不一定直接影响涂层质量,却可能由于使用寿命不达标从而间接影响到刀片涂层质量.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 加热罩对刀片CVD涂层质量影响的研究
来源期刊 福建冶金 学科
关键词 CVD涂层 温度 成膜质量 制作工艺 温度PID
年,卷(期) 2017,(5) 所属期刊栏目 金属材料
研究方向 页码范围 47-50
页数 4页 分类号
字数 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
CVD涂层
温度
成膜质量
制作工艺
温度PID
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
福建冶金
双月刊
1672-7665
35-1143/TF
大16开
1958-01-01
chi
出版文献量(篇)
1207
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192
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