分子束外延InSb薄膜材料的表面微观形貌研究

• 作者: 刘铭 周朋
• 来源期刊: 红外
• 学科: 工学
• 关键词: InSb薄膜材料 原子力显微镜 微观形貌 衬底偏角
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 7-10
• 页数: 4页
• 分类号: TN2
• 字数: 2466字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-8785.2017.02.002

摘要

用原子力显微镜等方法研究了在InSb (001)衬底和(001)偏(111)B面2 °衬底上分子束外延生长的同质外延薄膜和掺Al薄膜样品表面的微观形貌.对比了不同衬底同质外延时生长模式的差异,并观察了加入Al后引入的交叉影线,分析了其产生的原因.研究表明,使用有偏角的衬底更有利于减少分子束外延薄膜的表面缺陷.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘铭		41	93	5.0	8.0
2	周朋		21	20	2.0	3.0