磁控溅射法制备五氧化二钒薄膜的表面粗糙度研究

• 作者: 卢文壮 张吴晖 杨凯 杨斌 杨旭
• 来源期刊: 航空兵器
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 氧氩比 衬底温度 V2O5薄膜 表面粗糙度 激光防护技术
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 航空武器技术
• 页码范围: 60-64
• 页数: 5页
• 分类号: TJ760.5|TN213
• 字数: 2509字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19297/j.cnki.41-1228/tj.2017.02.012

摘要

V2O5是一种具有热致相变特性的新型非线性光学材料,被广泛应用于激光致盲防护领域.V2O5薄膜的表面粗糙度是影响其性能的重要因素.本文采用磁控溅射镀膜的方法在蓝宝石表面制备V2O5薄膜,通过控制氧氩比以及衬底温度,探究V2O5薄膜表面粗糙度与这两个因素之间的关系.实验表明,衬底温度较低(约300℃)时,表面粗糙度较小,且随氧含量变化不大;衬底温度较高(400℃以上)时,随着氧含量的增加,表面粗糙度变大.同时,当氧分压一定时,随着衬底温度的提高,薄膜的表面粗糙度也增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电学院	94	520	12.0	17.0
3	杨斌	南京航空航天大学机电学院	11	45	4.0	6.0
6	张吴晖	南京航空航天大学机电学院	7	10	2.0	3.0
8	杨凯	南京航空航天大学机电学院	7	80	3.0	7.0
9	杨旭	南京航空航天大学机电学院	13	31	3.0	5.0