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摘要:
中科院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室刘明团队提出了一种与CMOS工艺完全兼容、具有高均一性的高性能选通器件,为两端结构电阻型存储器的高密度三维集成提供了解决方案,基于该研究成果的论文被2016年IEEE国际电子器件大会(IEDM)接收并在作大会报告。交叉阵列中的漏电流问题是存储器高密度集成的主要障碍。
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文献信息
篇名 阻变存储器高密度集成
来源期刊 科学中国人 学科 工学
关键词 集成技术 高密度 存储器 微电子器件 CMOS工艺 重点实验室 电子研究所
年,卷(期) 2017,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 17-17
页数 1页 分类号 TN4
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研究主题发展历程
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集成技术
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微电子器件
CMOS工艺
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电子研究所
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科学中国人
半月刊
1005-3573
11-3292/G3
大16开
北京市海淀区中关村大街28号海淀文化艺术
82-592
1995
chi
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