高真空镀膜法在潜在手印显现中的应用研究进展

• 作者: 王聪 罗亚平
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 政治法律
• 关键词: 高真空镀膜 潜在手印 显现 研究进展
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 真空技术与理论
• 页码范围: 600-605
• 页数: 6页
• 分类号: DF794.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2017.06.09

摘要

高真空镀膜技术已广泛应用于工业领域,同时也逐渐被法庭科学领域作为手印证据提取的重要技术手段而应用.本文针对高真空镀膜法对潜在手印的显现原理、金属原料选择、客体适用以及与其他显现技术比较等方面综述了高真空镀膜法在手印显现领域的研究进展,并对未来的研究方向加以展望,便于后续开展研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗亚平	中国人民公安大学研究生院	81	237	8.0	9.0
2	王聪	中国人民公安大学研究生院	39	137	6.0	11.0