中子照相转换屏的角度响应研究

• 作者: 刘洋 张雄杰 杜洋 陈俊松
• 来源期刊: CT理论与应用研究
• 学科: 工学
• 关键词: 转换屏 角度响应 中子射线照相 蒙特卡罗
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 工业 CT
• 页码范围: 321-326
• 页数: 6页
• 分类号: TL99
• 字数: 2414字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15953/j.1004-4140.2017.26.03.08

摘要

在定量中子照相散射校正时需要考虑中子转换屏对不同角度入射中子的响应,中子转换屏的角度响应研究在中子照相散射校正中具有很重要的意义.本文在理论上推导中子转换屏的角度响应的解析式,并利用蒙特卡罗程序MCNP5对该解析式进行验证.利用蒙特卡罗方法对中子转换屏角度响应的影响因素进行研究.给出中子转换屏的角度响应与转换屏厚度以及入射中子能量之间的关系,中子转换屏的角度响应随着转换屏的厚度增大而增大,随着入射中子能量的增大而减小,并得到6LiF-ZnS (Ag)转换屏的最佳厚度为0.3mm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张雄杰	东华理工大学核技术应用教育部工程研究中心	32	83	5.0	7.0
2	杜洋	东华理工大学核技术应用教育部工程研究中心	11	35	4.0	5.0
3	刘洋		4	6	2.0	2.0
4	陈俊松	东华理工大学核技术应用教育部工程研究中心	4	2	1.0	1.0