基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
采用溶剂蒸发法生长出透明的带隙宽度为2.96 eV的γ-CuI晶体.在紫外光激发下,该晶体在410、430 nm处分别呈现有近带边发射峰,另在720 nm附近还出现一个与样品碘缺陷有关的宽发射带.经碘退火后,样品720 nm发射带被基本抑制,而在420 nm处出现了一个更强的近带边发射峰.使用扫描相机分别测量了γ-CuI晶体各发射峰(带)的衰减时间谱,其中近带边发射峰的发光衰减时间常数均在数十皮秒量级,表明γ-CuI晶体具有极快的时间响应特性;而720 nm发射带的发光衰减时间常数主要在数十纳秒量级.X射线激发下,γ-CuI晶体具有435 nm近带边发射峰和680 nm发射带,其近带边发射对X射线能量响应的测量结果表明,当Ex<49.1 keV时,γ-CuI晶体闪烁光快分量对X射线的探测效率相对较高.
推荐文章
成像板对X射线的能量响应
成像板
能量响应
X射线
衰减模型
X射线的衰减和能量沉积计算
衰减和吸收
能量沉积
抗辐射加固
蒙特卡罗方法
ZnO:Ga晶体对硬X射线的时间及能量响应
ZnO
Ga晶体
无机晶体
硬X射线
时间响应
能量响应
闪烁薄膜探测器X/γ射线能量响应研究
薄膜闪烁体
能量响应
Geant4程序
脉冲X射线
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 γ-CuI晶体的发光衰减时间和对X射线的能量响应
来源期刊 无机材料学报 学科 物理学
关键词 γ-CuI晶体 超快闪烁体 衰减时间 能量响应
年,卷(期) 2017,(2) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 163-168
页数 6页 分类号 O734
字数 2915字 语种 中文
DOI 10.15541/jim20160262
五维指标
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (2)
共引文献  (3)
参考文献  (14)
节点文献
引证文献  (1)
同被引文献  (1)
二级引证文献  (0)
1977(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1994(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2003(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2005(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2006(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2008(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2009(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2010(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2013(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2014(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
2015(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2017(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2019(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
γ-CuI晶体
超快闪烁体
衰减时间
能量响应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
无机材料学报
月刊
1000-324X
31-1363/TQ
16开
上海市定西路1295号
4-504
1986
chi
出版文献量(篇)
4760
总下载数(次)
8
总被引数(次)
61689
论文1v1指导