磁控溅射TiAlSiN膜的抗氧化性能

• 作者: 尹雪 张泽健 张罡 李宝华 王启钧 黄曼
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 TiAlN TiAlSiN 抗氧化性 高温
• 年，卷（期）: 2017,（7）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 60-63
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2841字
• 语种: 中文

摘要

目前,针对TiAlN和TiAlSiN薄膜在800～1 000℃高温氧化时的硬度及抗氧化性能研究较少.利用磁控溅射技术,在高速钢W18Cr4V表面制备了TiAlN和TiAlSiN薄膜,当Al靶功率为100W、Si靶溅射电流为0.20 A时,TiAlSiN薄膜硬度及弹性模量达到最大值,对此条件下的膜层进行了大气高温氧化试验.采用激光共聚焦显微镜、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)等检测手段,研究了800,900,1 000C下2种薄膜的抗氧化性.结果表明:经相同温度氧化处理后,TiAlSiN薄膜的表面粗糙度明显小于TiAlN薄膜的;在TiAlN中引入Si元素形成Si3N4包裹TiN纳米晶的复合结构,抑制了膜层中裂纹的形成,使TiAlSiN薄膜在相同氧化温度下的抗氧化性能比TiAlN薄膜更加优异.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张罡	沈阳理工大学材料科学与工程学院	104	425	11.0	13.0
2	李宝华	沈阳理工大学材料科学与工程学院	1	3	1.0	1.0
3	尹雪	沈阳理工大学材料科学与工程学院	3	9	2.0	3.0
4	黄曼	沈阳理工大学材料科学与工程学院	3	12	3.0	3.0
5	张泽健	沈阳理工大学材料科学与工程学院	1	3	1.0	1.0
6	王启钧		4	17	3.0	4.0