聚焦离子束(FIB)直写技术研究

• 作者: 柴青 金乾进
• 来源期刊: 传感器世界
• 学科: 工学
• 关键词: 聚焦离子束 纳米图形制备 加工参数 结构
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 研究动态
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: TH73|TH74
• 字数: 2108字
• 语种: 中文

摘要

简单介绍了聚焦离子束的工作原理,以及在微电子行业中的应用.具体讨论了聚焦离子束在制备纳米图形中的影响因素,包括不同的加工参数,如离子束电能量、离子束电流、驻留时间,以及不同的制备方法产生的各效应,包括再沉积、结构干涉再沉积,对结构形貌的影响,从而确定各参数在纳米图形制备过程中的应用.实验结果表明,离子束能量改变了入射离子去除材料的能力、离子束电流改变了制备图形(线、方)结构的深宽比,驻留时间的变化增加了刻蚀结构中再沉积效应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	柴青	东南大学机械工程学院	3	2	1.0	1.0
2	金乾进	东南大学机械工程学院	1	1	1.0	1.0