硅基片上刻蚀衍射光栅及其平坦化设计

• 作者: 仇超 李伟 武爱民 甘甫烷 盛振 赵瑛璇 陈鑫 黄海阳
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 集成光学 刻蚀衍射光栅 硅基光互连 波分复用技术
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 激光材料和光学元件
• 页码范围: 361-366
• 页数: 6页
• 分类号: TN256
• 字数: 3134字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2017.03.012

摘要

刻蚀衍射光栅(EDG)作为实现波分复用功能的关键器件,对于片上光互连的实现至关重要.为了实现1310nm波段通道间隔为20nm的硅基EDG,采用了基尔霍夫标量衍射理论仿真方法进行理论设计和仿真验证,通过在闪耀光栅反射面引入布喇格反射光栅来提高反射效率、降低器件插入损耗,并在入射波导处引入多模干涉耦合器以实现通道频谱平坦化设计.结果表明,闪耀光栅反射面的反射效率由35％提高到了85％,1dB带宽达到12nm.这对于提高系统稳定性、增大传输距离和容量、降低系统成本具有显著作用,能够满足光互连系统的实际应用需求.