全息聚合材料PQ/PMMA的光学反应分析

• 作者: 刘水 林星宇 邢端松
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 物理学
• 关键词: PQ/PMMA 曝光强度 空间频率 失真效应 折射指数
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 349-354,360
• 页数: 7页
• 分类号: O438.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.16818/j.issn1001-5868.2017.03.010

摘要

为了探究掺杂有菲醌的聚甲基丙烯酸甲酯(PQ/PMMA)光致聚合材料的光学特性,根据该全息聚合材料基本理论以及内部的光化学反应机制与效应,通过数学方法构建内部反应模型进行仿真与拟合,分析了曝光强度、空间频率对产物、折射指数的影响以及存在的失真效应.结果表明:在给定参数下,曝光强度的最佳选择范围为60～80 mW/cm2,空间频率的相对优化的选择为1 800 lines/mm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林星宇	南京理工大学电子工程与光电技术学院	1	1	1.0	1.0
2	邢端松	南京理工大学电子工程与光电技术学院	1	1	1.0	1.0
3	刘水	南京理工大学电子工程与光电技术学院	1	1	1.0	1.0